Обзоры и сравнения

Российский многолучевой литограф: прорыв в производстве микросхем

6 августа 2026 г.Валерий Светозаров1 мин

Российские инженеры представили инновационный проект многолучевого электронного литографа, предназначенного для производства современных микросхем. Этот передовой комплекс разрабатывается при поддержке Национальной технологической инициативы. В его основе лежит уникальный мультикатод, способный генерировать множество независимых электронных пучков одновременно, в отличие от традиционных систем с одним лучом.

По прогнозам разработчиков, внедрение этого решения позволит радикально сократить время экспонирования кремниевых пластин: с текущих полутора-двух недель до всего лишь 5-7 минут. Это представляет собой ускорение примерно в 3000 раз по сравнению с классическими однолучевыми технологиями. Сама технология мультикатода уже успешно разработана и подтвердила свою эффективность в ходе практических испытаний.

Ключевое отличие от некоторых зарубежных аналогов, где единственный луч делится с помощью зеркал и затворов, заключается в том, что российская система применяет полностью независимые источники электронов, размещенные на единой подложке. Создание первого опытного образца запланировано ориентировочно через три года. Данная технология призвана обеспечить производство микросхем с топологическими нормами от 350 нанометров вплоть до нескольких нанометров.